蒸鍍設備是干什麼的

❶ 如何區別濺鍍設備和蒸鍍設備

自問自答吧:濺鍍設備必須用到惰性氣體;而蒸鍍就不用;蒸鍍設備集中,而濺鍍設備可以很線型;
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❷ 什麼是真空鍍膜技術

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板於真空室內，採用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或升華，並飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
一、鍍膜的方法及分類
在真空條件下成膜有很多優點：可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中於分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的緻密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸發源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。
主要分為一下幾類：
蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
蒸發鍍膜：通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法最早由M.法拉第於1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。
蒸發物質如金屬、化合物等置於坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置於坩堝前方。待系統抽至高真空後，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定於蒸發源的蒸發速率和時間（或決定於裝料量），並與源和基片的距離有關。對於大面積鍍膜，常採用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小於蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。
蒸發源有三種類型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭製成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置於坩堝中的蒸發物質（圖1[蒸發鍍膜設備示意圖]）電阻加熱源主要用於蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質。③電子束加熱源：適用於蒸發溫度較高（不低於2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發。
蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。
為沉積高純單晶膜層，可採用分子束外延方法。生長摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置如圖2[ 分子束外延裝置示意圖]。噴射爐中裝有分子束源，在超高真空下當它被加熱到一定溫度時，爐中元素以束狀分子流射向基片。基片被加熱到一定溫度，沉積在基片上的分子可以徙動，按基片晶格次序生長結晶用分子束外延法可獲得所需化學計量比的高純化合物單晶膜，薄膜最慢生長速度可控制在1單層／秒。通過控制擋板,可精確地做出所需成分和結構的單晶薄膜。分子束外延法廣泛用於製造各種光集成器件和各種超晶格結構薄膜。
濺射鍍膜：用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量並逸出表面，沉積在基片上。濺射現象於1870年開始用於鍍膜技術，1930年以後由於提高了沉積速率而逐漸用於工業生產。常用的二極濺射設備如圖3[ 二極濺射示意圖]。通常將欲沉積的材料製成板材——靶,固定在陰極上。基片置於正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統抽至高真空後充入 10-1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產生輝光放電。放電產生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質。濺射化合物膜可用反應濺射法，即將反應氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應氣體及其離子與靶原子或濺射原子發生反應生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上。沉積絕緣膜可採用高頻濺射法。基片裝在接地的電極上，絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地，一端通過匹配網路和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源後，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負半周分別打到絕緣靶上。由於電子遷移率高於正離子，絕緣靶表面帶負電，在達到動態平衡時，靶處於負的偏置電位，從而使正離子對靶的濺射持續進行。採用磁控濺射可使沉積速率比非磁控濺射提高近一個數量級。
離子鍍：蒸發物質的分子被電子碰撞電離後以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯於1963年提出的。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。一種離子鍍系統如圖4[離子鍍系統示意圖],將基片台作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體（如氬）以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被基片台負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，並有很好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。
二、薄膜厚度的測量
隨著科技的進步和精密儀器的應用，薄膜厚度測量方法有很多，按照測量的方式分可以分為兩類：直接測量和間接測量。直接測量指應用測量儀器，通過接觸（或光接觸）直接感應出薄膜的厚度。
常見的直接法測量有：螺旋測微法、精密輪廓掃描法（台階法）、掃描電子顯微法（SEM）；
間接測量指根據一定對應的物理關系，將相關的物理量經過計算轉化為薄膜的厚度，從而達到測量薄膜厚度的目的。
常見的間接法測量有：稱量法、電容法、電阻法、等厚干涉法、變角干涉法、橢圓偏振法。按照測量的原理可分為三類：稱量法、電學法、光學法。
常見的稱量法有：天平法、石英法、原子數測定法；
常見的電學法有：電阻法、電容法、渦流法；
常見的光學方法有：等厚干涉法、變角干涉法、光吸收法、橢圓偏振法。
下面簡單介紹三種：
1. 干涉顯微鏡法
干涉條紋間距Δ0，條紋移動Δ，台階高為t=(Δ/Δ0 )*0.5λ，測出Δ0 和Δ，即可，其中λ為單色光波長，如用白光，λ取 530nm。

2. 稱重法
如果薄膜面積A，密度ρ和質量m可以被精確測定的話，膜厚t就可以計算出來：
d=m/Aρ。
3 石英晶體振盪器法
廣泛應用於薄膜淀積過程中厚度的實時測量，主要應用於淀積速度，厚度的監測，還可以反過來（與電子技術結合）控制物質蒸發或濺射的速率，從而實現對於淀積過程的自動控制。
對於薄膜製造商而言，產品的厚度均勻性是最重要的指標之一，想要有效地控制材料厚度，厚度測試設備是必不可少的，但是具體要選擇哪一類測厚設備還需根據軟包材的種類、廠商對厚度均勻性的要求、以及設備的測試范圍等因素而定。
三、真空鍍膜機保養知識：
1. 關閉泵加熱系統，然後分離蒸鍍室（主要清潔灰塵，於蒸鍍殘渣）
2. 關閉電源或程序打入維護狀態
3. 清潔卷繞系統（幾個滾軸，方阻探頭，光密度測量器）
4. 清潔中罩室（面板四周）
5. 泵系統冷卻後打開清潔（注意千萬不能掉入雜物，檢查泵油使用時間與量計做出更換或添加處理）
6. 檢查重冷與電氣櫃設備
這次實習給了我們了解了鍍膜技術的原理、技術，使我們了解了工廠的生產，感覺很新穎，收獲很多。

❸ 真空蒸發鍍膜做什麼的

蒸發鍍膜設來備與技術真自空蒸發鍍膜設備主要用於在經予處理的塑料、陶瓷等製品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、價廉的塑料,陶瓷表面金屬化製品。廣泛應用於工藝美術、裝璜裝飾、燈具、傢具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋後跟等領域,JTPZ多功能鍍膜技術及設備（加有射頻等離子體聚合的蒸發鍍膜機），針對汽車、摩托車燈具而設計的，在一個真空室內完成蒸發鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜，這種鍍膜後燈具具有「三防」功能。射頻等離子體聚合膜還應用於光學產品、磁記錄介質、軍事國防保護膜；防潮增透膜；防銹抗腐蝕；耐磨增硬膜。   用戶選擇在燈具基體上噴底漆、鍍鋁膜、鍍保護膜或燈具基體在真空室進行前處理（不噴底漆）、鍍鋁膜、鍍保護膜工藝。在ABS,PC,PBT,PE,PP,PA66等塑料基體上直接鍍膜，不需噴底漆，也不需噴面漆(不需要投資噴塗設備），在鍍完鋁膜後直接鍍一層保護膜。滴1%NaOH溶液10分鍾鋁層不腐蝕，去離子水中浸飽96小時鋁層不脫落。

❹ 蒸發鍍膜設備里的離子原有什麼作用

蒸發鍍膜設備里的離子源的主要作用有：

1. 使薄膜與工件同時存在物理氣相沉積和化學反版應，鍍層結合權力高。

2. 使所鍍膜層均勻緻密，韌性好。

3. 膜層光譜特性穩定，溫度漂移小。

4. 吸水性減少。

5. 膜層折射率提高。

6. 膜層表面粗糙度降低。

7. 激光閾值減低。

❺ 蒸鍍的蒸鍍工藝

1、cvd用原料化合物及其製造方法及銥或銥化合物薄膜的化學氣相蒸鍍法
2、cvd用原料化合物及銥或銥化合物薄膜的化學氣相蒸鍍方法
3、cvd用原料化合物以及釕或釕化合物薄膜的化學氣相蒸鍍方法
4、彩色陰極射線管及其製造方法和蒸鍍用復合材料
5、層壓薄膜和使用它的蒸鍍薄膜
6、除塵裝置、蒸鍍機台及以其進行清潔遮罩的方法
7、帶有磁鐵的等離子體的連續蒸鍍裝置
8、等離子體蒸鍍設備防止凝縮裝置
9、電激發光顯示板的製造方法及蒸鍍遮罩
10、電激發光元件的製造方法及蒸鍍遮罩
11、改進型蒸鍍方法
12、高溫超導薄膜雙面蒸鍍技術及其裝置
13、金屬蒸鍍薄膜、其製造方法及使用它的電容器
14、利用等離子體的高分子膜連續蒸鍍裝備的電極固定裝置
15、利用等離子體的高分子膜連續蒸鍍裝置清洗方法
16、利用蒸鍍夾具的手機外殼emi層真空蒸鍍方法及夾具
17、連續式蒸鍍濺鍍機
18、免蒸鍍的硬式帶式自動焊接封裝方法
19、鋅蒸鍍薄膜及金屬化薄膜電容器
20、掩模蒸鍍方法及裝置、掩模及其製造方法、顯示板製造裝置
21、氧化鎂蒸鍍材料
22、一氧化硅蒸鍍材料及其製造方法、製造原料和製造裝置
23、一氧化硅蒸鍍材料及其製造方法
24、一種利用強電場的真空熱蒸鍍成膜方法
25、一種用於半導體激光器腔面蒸鍍的非接觸固定方式的夾具
26、陰極電弧蒸鍍方式淀積類金剛石碳膜的制備方法
27、用於鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜
28、用於鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜及其製造方法
29、用於生產高折射率光學塗層的蒸鍍用材料
30、用於製作有機電致發光顯示器的蒸鍍裝置
31、有機el元件製造用蒸鍍裝置的室內的清洗方法
32、有機場致發光膜蒸鍍用蒸鍍源
33、有機發光二極體蒸鍍機台
34、有機膜蒸鍍方法
35、在光學基片上蒸鍍鍍膜的方法
36、在光學基片上蒸鍍鍍膜的真空鍍膜設備
37、真空電弧蒸鍍方法及裝置
38、真空蒸鍍設備用的蒸鍍裝置
39、蒸鍍材料及其利用該材料製造光學薄膜
40、蒸鍍材料其制備方法和用該材料制備光學塗層方法
41、蒸鍍方法及顯示裝置的製造方法
42、蒸鍍方法及蒸鍍裝置
43、蒸鍍膜
44、蒸鍍掩模及製法、顯示裝置及製法以及具有其的電子機器
45、蒸鍍用坩鍋
46、蒸鍍用掩模及其製造方法
47、蒸鍍裝置
48、蒸鍍裝置
49、蒸鍍裝置
50、蒸鍍裝置
51、直接蒸鍍用樹脂組合物、使用該組合物的模塑製品以及表面金屬化處理的燈罩
52、製作電致發光顯示器的、使用電磁鐵的蒸鍍裝置及採用此裝置的蒸鍍方法

❻ 真空蒸鍍的設備

可用的金屬蒸發源包括電阻加熱、感應蒸發、電子束槍，以及真空電版弧。電阻加熱的鎢絲權是最常用的方式。鎢絲放置於要求位置，獲得均勻的覆蓋，鋁屑或切段放置在鎢絲上。蒸發金屬也可放置在加熱艇或坩鍋內。
蒸鍍通常可以在圓柱形塗鍍室內分批進行。塗鍍室直徑可達幾米，取決於塗鍍零件的大小和數量。零件可以繞蒸汽源做行星運動，以在零件各邊均勻地塗鍍金屬層。如果需要的話，不需塗鍍的區域可使用隔膜，通常是金屬板。

❼ 我是新手，主要工作是找買家和代理商，我們公司是經營真空鍍膜設備及配件，比如蒸發鍍膜機，光學鍍膜機等

坦白來講，鍍膜機如果是進口的，新手是難以打入市場的，如果是國內產的，實際上只容有現代南光，國投南光還可以，其他牌子的，沒有什麼競爭力。因為進口的都是老外在做市場銷售，而國產的各廠家水平有限，兩個南光是以前老南光積累下來的實力，其他的比如三束，北儀等，在自動化控制方面和電傳可靠性上沒有優勢。
如果是配件，僅限於一種牌子設備的話，你只能找銷售記錄，哪裡有就找哪裡。如果是通用品，比如燈絲，真空管，坩堝等消耗品，要先找到各個光學公司，從人入手，做好公關。這個行業做的比較明，廠家本來就少，有實權的一般都有比較穩定的供應商合作，新手是要交學費的。

❽ 真空鍍膜機是干什麼用的

真空鍍膜機 主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種版類，包括真空離子蒸發權，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種

適用范圍：
1．建築五金：衛浴五金（如水龍頭）．門鎖．門拉手．衛浴、五金合葉、傢具等。
2．製表業：可用於表殼．表帶的鍍膜、水晶製品。
3．其它小五金：皮革五金．不銹鋼餐具．眼鏡框、刀具、模具等．
4．大型工件：汽車輪轂、不銹鋼板．招牌．雕塑等。
5、不銹鋼管和板（各種類型表面）
6、傢具、燈具、賓館用具。
7、鎖具、拉手、衛浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器血等五金製品鍍超硬裝飾膜。
8、手錶、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾（金銀）納米膜和納米膜和納米疊層膜。

操作程序：
真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設備說明書和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。

❾ 從韓國進口OLED蒸鍍設備生產設備成本高嗎

這個具體要看你買的是新的還是舊的，舊的相對來說成本低一些，我司可以輔助做全程的運輸和進口代理。

❿ 真空電鍍設備是什麼有什麼用

真空電鍍主要包括：
真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是採用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產品的功能性鍍層，例如作為內部屏蔽層使用。常見的塑膠產品電鍍工藝有兩種：水電鍍和真空離子鍍. 真空離子鍍，又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現在是一種比較流行的做法，做出來的產品金屬感強，亮度高．而相對其他的鍍膜法來說，成本較低，對環境的污染小，現在為各行業廣泛採用．
真空電鍍適用范圍
真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、ABS+PC料、PC料的產品.同時因其工藝流程復雜、環境、設備要求高，單價比水電鍍昂貴.現對其工藝流程作簡要介紹：產品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.
真空電鍍的做法
一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由於素材是塑料件，在注塑時會殘留空氣泡，有機氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分．另外，由於塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，並且會出現氣泡，水泡等不良狀況．噴上一層底漆以後，會形成一個光滑平整的表面，並且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產生，使得電鍍的效果得以展現． 真
空電鍍可分為：
一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等.
應用舉例：
PC料耐溫130度，只有「真空電鍍+UV油光固」才可達到耐130度高溫要求。而一般的水電鍍是無法對PC料進行電鍍的！
編輯本段真空電鍍工藝
真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。 加熱金屬的方法：有利用電阻產生的熱能，也有利用電子束的。 在對塑料製品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。 置待鍍金屬和被鍍塑料製品於真空室內，採用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料製品表面凝聚成金屬薄膜。 在真空條件下可減少蒸發材料的原子、分子在飛向塑料製品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），從而提供膜層的緻密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸發源與被鍍製品和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。 鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%