A. 什麼是晶元製造的Track和Scanner設備
半導體製造中的Track和Scanner都是常見的設備,但是它們的作用和功能有所不同。
Track是半導體製造中的一種設備,主要用於晶元的濕法處理。
Track通常由多個處理單元組成,包括清洗單元、蝕刻單元、塗膠單元等。Track的主要作用是對晶元表面進行各種濕法處理,如去除污染物、沉積化學品、塗覆光刻膠等,以便後續的光刻、蝕刻等工藝步驟能夠正確地進行。
Scanner則是半導體製造中的另一種設備,主要用於晶元的光刻。
Scanner使用光學技術,將模板上的晶元圖案照射到矽片表面,形成微米級別的圖案。Scanner的主要特點是解析度高、精度高、速度快。目前,Scanner已經成為半導體製造中不可或缺的工具,被廣泛應用於晶元製造的各個領域。
因此,Track和Scanner的區別在於,Track主要用於晶元的濕法處理,而Scanner則主要用於晶元的光刻。兩者的作用不同,但在半導體製造的整個生產過程中都起著重要的作用。