大氣壓微波等離子體射流裝置設計及實驗研究

Ⅰ 等離子體射流產生的放點原理，空氣擊穿場強是多少

大氣壓下非平衡等離子體射流的物理特性中最吸引人的部分莫過於其傳播機理。按專照不同的傳播機屬理將等離子體射流分為兩類：電場驅動的等離子體射流和流體驅動的等離子體射流。
能夠產生電場驅動的等離子體射流的裝置結構有很多種。國內外的研究人員對這種等離子體射流進行了廣泛的研究，並對其物理機理進行了深入探討。盡管這些射流的結構有很多種，但就工作氣體而言，迄今為止所觀察到的電場驅動的等離子體射流都是在惰性氣體條件下產生的。
目前對流體驅動等離子體射流的研究很少。Lu的課題組首次通過實驗發現等離子體射流[3] 存在這種傳播方式。他們所採用的裝置由1根毛細介質管，以及1個位於介質管內的針電極和1個位於介質管前端的環電極構成。毛細介質管中通入高速氮氣。2個電極分別接高壓和大地，等離子體在針電極和環電極之間產生，並從毛細管中噴射出來。研究表明該等離子體射流是流體驅動的。

Ⅱ 微生物育種的誘變育種

1.1物理誘變
1.1.1紫外照射
紫外線照射是常用的物理誘變方法之一，是誘發微生物突變的一種非常有用的工具。DNA 和RNA 的嘌呤和嘧啶最大的吸收峰在260nm，因此在260nm 的紫外輻射是最有效的致死劑。紫外輻射的作用已有多種解釋，但比較確定的作用是使DNA 分子形成嘧啶二聚體[1]。二聚體的形成會阻礙鹼基間正常配對，所以可能導致突變甚至死亡[2]。
紫外照射誘變操作簡單，經濟實惠，一般實驗室條件都可以達到，且出現正突變的幾率較高，酵母菌株的誘變大多採用這種方法。
1.1.2電離輻射
γ- 射線是電離生物學上應用最廣泛的電離射線之一，具有很高的能量，能產生電離作用,可直接或間接地改變DNA 結構。其直接效應是可以氧化脫氧核糖的鹼基，或者脫氧核糖的化學鍵和糖- 磷酸相連接的化學鍵。其間接效應是能使水或有機分子產生自由基，這些自由基可以與細胞中的溶質分子發生化學變化，導致DNA 分缺失和損傷[2]。
除γ- 射線外的電離輻射還有X- 射線、β- 射線和快中子等。電離輻射有一定的局限性，操作要求較高，且有一定的危險性，通常用於不能使用其他誘變劑的誘變育種過程。
1.1.3離子注入
離子注入是20 世紀80 年代初興起的一項高新技術，主要用於金屬材料表面的改性。1986 年以來逐漸用於農作物育種，近年來在微生物育種中逐漸引入該技術[3]。
離子注入時，生物分子吸收能量，並且引起復雜的物理和化學上的變化，這些變化的中間體是各類活性自由基。這些自由基，可以引起其它正常生物分子的損傷，可使細胞中的染色體突變，DNA 鏈斷裂，也可使質粒DNA 造成斷裂。由於離子注入射程具有可控性，隨著微束技術和精確定位技術的發展，定位誘變將成為可能[4]。
離子注入法進行微生物誘變育種，一般實驗室條件難以達到，目前應用相對較少。
1.1.4 激光
激光是一種光量子流，又稱光微粒。激光輻射可以通過產生光、熱、壓力和電磁場效應的綜合應用，直接或間接地影響有機體，引起細胞染色體畸變效應、酶的激活或鈍化，以及細胞分裂和細胞代謝活動的改變。光量子對細胞內含物中的任何物質一旦發生作用，都可能導致生物有機體在細胞學和遺傳學特性上發生變異。不同種類的激光輻射生物有機體，所表現出的細胞學和遺傳學變化也不同[5]。
激光作為一種育種方法，具有操作簡單、使用安全等優點，近年來應用於微生物育種中取得不少進展。
1.1.5 微波
微波輻射屬於一種低能電磁輻射，具有較強生物效應的頻率范圍在300MHz~300GHz，對生物體具有熱效應和非熱效應。其熱效應是指它能引起生物體局部溫度上升。從而引起生理生化反應；非熱效應指在微波作用下，生物體會產生非溫度關聯的各種生理生化反應。在這兩種效應的綜合作用下，生物體會產生一系列突變效應[6]。
因而,微波也被用於多個領域的誘變育種，如農作物育種、禽獸育種和工業微生物育種，並取得了一定成果。
1.1.6 航天育種
航天育種，也稱空間誘變育種，是利用高空氣球、返回式衛星、飛船等航天器將作物種子、組織、器官或生命個體搭載到宇宙空間，利用宇宙空間特殊的環境使生物基因產生變異，再返回地面進行選育，培育新品種、新材料的作物育種新技術。空間環境因素主要有微重力，空間輻射，以及其它誘變因素如交變磁場，超真空環境等，這些因素交互作用導致生物系統遺傳物的損傷，使生物發生諸如突變、染色體畸變、細胞失活、發育異常等。
航天育種較其它育種方法特殊，是航天技術與微生物育種技術的有機結合，技術含量高，成本高，個體研究者或一般研究單位都難以實現，只能與航天技術相結合，由國家來完成。
1.1.7 常壓室溫等離子體誘變育種
常壓低溫等離子體（Atmospheric and Room Temperature Plasma）簡稱為ARTP，指能夠在大氣壓下產生溫度在25-40 °C之間的、具有高活性粒子（包括處於激發態的氦原子、氧原子、氮原子、OH自由基等）濃度的等離子體射流。ARTP技術作為一種新型的物理方法，在微生物誘變育種領域有著廣闊的應用前景。
等離子體中適當劑量的活性粒子作用於微生物，能夠使微生物細胞壁/膜的結構及通透性改變，並引起基因損傷，菌株出現遺傳物質損傷後，微生物啟動SOS修復機制，其誘導產生DNA聚合酶Ⅳ和V，它們不具有3ˊ核酸外切酶校正功能，於是在DNA鏈的損傷部位即使出現不配對鹼基，復制仍能繼續前進。在此情況下允許錯配可增加存活的機會。ARTP對遺傳物質造成的損傷，多樣性較高；又SOS誘導修復本身為容錯性修復，因此，ARTP多樣性的損傷將可能在修復過程中包容於DNA鏈中，在微生物進行復制修復時，其可能帶來多樣性的錯配可能。
ARTP應用於微生物突變育種，成本低、操作方便，沒有很多物理誘變設備（如離子束注入等）所需的離子或電子加速、真空和製冷等附屬設備；ARTP對遺傳物質的損傷機制多樣，具有較高的正突變率，突變性能多樣，對於真菌、細菌、藻類等都有效果；ARTP對環境無污染，保證操作者的人身安全，無論用何種氣體放電，其均無有害氣體產生。

Ⅲ 低溫等離子體的產生方法

輝光放電，電暈放電，介質阻擋放電，射頻放電，滑動電弧放電，射流放電，大氣壓輝光放電，次大氣壓輝光放電
輝光放電(GlowDischarge)輝光放電屬於低氣壓放電(low pressure discharge)，工作壓力一般都低於10mbar，其構造是在封閉的容器內放置兩個平行的電極板，利用電子將中性原子和分子激發，當粒子由激發態(excited state)降回至基態(ground state)時會以光的形式釋放出能量。電源可以為直流電源也可以是交流電源。每種氣體都有其典型的輝光放電顏色(如下表所示)，熒光燈的發光即為輝光放電。因此，實驗時若發現等離子的顏色有誤，通常代表氣體的純度有問題，一般為漏氣所至。輝光放電是化學等離子體實驗的重要工具，但因其受低氣壓的限制，工業應用難於連續化生產且應用成本高昂，而無法廣泛應用於工業製造中。到2013年止的應用范圍僅局限於實驗室、燈光照明產品和半導體工業等 。
部分氣體輝光放電的顏色 Gas Cathode Layer Negative Glow Positive Column He
Ne(neon)
Ar
Kr
Xe
H2
N2
O2
Air red
yellow
pink
-
-
red-brown
pink
red
pink pink
orange
dark-blue
green
orange-green
thin-blue
blue
yellow-white
blue Red-pink
red-brown
dark-red
blue-purple
white-green
pink
red-yellow
red-yellow
red-yellow 電暈放電(CoronaDischarge)
氣體介質在不均勻電場中的局部自持放電。是最常見的一種氣體放電形式。在曲率半徑很小的尖端電極附近，由於局部電場強度超過氣體的電離場強，使氣體發生電離和激勵，因而出現電暈放電。發生電暈時在電極周圍可以看到光亮，並伴有噝噝聲。電暈放電可以是相對穩定的放電形式，也可以是不均勻電場間隙擊穿過程中的早期發展階段 。電暈放電的形成機制因尖端電極的極性不同而有區別，這主要是由於電暈放電時空間電荷的積累和分布狀況不同所造成的。在直流電壓作用下，負極性電暈或正極性電暈均在尖端電極附近聚集起空間電荷。在負極性電暈中，當電子引起碰撞電離後，電子被驅往遠離尖端電極的空間,並形成負離子,在靠近電極表面則聚集起正離子。電場繼續加強時，正離子被吸進電極，此時出現一脈沖電暈電流，負離子則擴散到間隙空間。此後又重復開始下一個電離及帶電粒子運動過程。如此循環，以致出現許多脈沖形式的電暈電流，電暈放電可以在大氣壓下工作，但需要足夠高的電壓以增加電暈部位的電場。一般在高壓和強電場的工作條件下，不容易獲得穩定的電暈放電，亦容易產生局部的電弧放電(arc)。為提高穩定性可將反應器做成非對稱(asymmetric)的電極形式（如下圖所示）。電暈放電反應器的設計主要參考電源的性質而有所不同，有直流電暈放電(DC corona)和脈沖式(pulsed corona)電暈放電。利用電暈放電可以進行靜電除塵、污水處理、空氣凈化等。地面上的樹木等尖端物體在大地電場作用下的電暈放電是參與大氣電平衡的重要環節。海洋表面濺射水滴上出現的電暈放電可促進海洋中有機物的生成，還可能是地球遠古大氣中生物前合成氨基酸的有效放電形式之一。針對不同應用目的研究，電暈放電是具有重要意義的技術課題 。
介質阻擋放電(Dielectric Barrier Discharge,DBD)
介質阻擋放電(DBD)是有絕緣介質插入放電空間的一種非平衡態氣體放電又稱介質阻擋電暈放電或無聲放電。介質阻擋放電能夠在高氣壓和很寬的頻率范圍內工作，通常的工作氣壓為10～10。電源頻率可從50Hz至1MHz。電極結構的設計形式多種多樣。在兩個放電電極之間充滿某種工作氣體,並將其中一個或兩個電極用絕緣介質覆蓋,也可以將介質直接懸掛在放電空間或採用顆粒狀的介質填充其中，當兩電極間施加足夠高的交流電壓時，電極間的氣體會被擊穿而產生放電，即產生了介質阻擋放電。在實際應用中，管線式的電極結構被廣泛的應用於各種化學反應器中，而平板式電極結構則被廣泛的應用於工業中的高分子和金屬薄膜及板材的改性、接枝、表面張力的提高、清洗和親水改性中 。
介質阻擋放電通常是由正弦波型(sinusoidal)的交流(alternatingcurrent, AC)高壓電源驅動，隨著供給電壓的升高，系統中反應氣體的狀態會經歷三個階段的變化，即會由絕緣狀態(insulation)逐漸至擊穿(breakdown)最後發生放電。當供給的電壓比較低時，雖然有些氣體會有一些電離和游離擴散，但因含量太少電流太小，不足以使反應區內的氣體出現等離子體反應，此時的電流為零。隨著供給電壓的逐漸提高，反應區域中的電子也隨之增加，但未達到反應氣體的擊穿電壓(breakdown voltage; avalanche voltage)時，兩電極間的電場比較低無法提供電子足夠的能量使氣體分子進行非彈性碰撞，缺乏非彈性碰撞的結果導致電子數不能大量增加，因此，反應氣體仍然為絕緣狀態，無法產生放電，此時的電流隨著電極施加的電壓提高而略有增加，但幾乎為零。若繼續提高供給電壓，當兩電極間的電場大到足夠使氣體分子進行非彈性碰撞時，氣體將因為離子化的非彈性碰撞而大量增加，當空間中的電子密度高於一臨界值時及帕邢(Paschen)擊穿電壓時，便產生許多微放電絲(microdischarge)導通在兩極之間，同時系統中可明顯觀察到發光(luminous)的現象此時，電流會隨著施加的電壓提高而迅速增加 。在介質阻擋放電中，當擊穿電壓超過帕邢(Paschen)擊穿電壓時，大量隨機分布的微放電就會出現在間隙中，這種放電的外觀特徵遠看貌似低氣壓下的輝光放電，發出接近蘭色的光。近看，則由大量呈現細絲狀的細微快脈沖放電構成。只要電極間的氣隙均勻，則放電是均勻、漫散和穩定的。這些微放電是由大量快脈沖電流細絲組成，而每個電流細絲在放電空間和時間上都是無規則分布的，放電通道基本為圓柱狀，其半徑約0.1~0.3mm，放電持續時間極短，約為10~100ns，但電流密度卻可高達0.1~1kA/cm，每個電流細絲就是一個微放電，在介質表面上擴散成表面放電，並呈現為明亮的斑點。這些宏觀特徵會隨著電極間所加的功率、頻率和介質的不同而有所改變。如用雙介質並施加足夠的功率時，電暈放電會表現出「無絲狀」、均勻的蘭色放電，看上去像輝光放電但卻不是輝光放電。這種宏觀效應可通過透明電極或電極間的氣隙直接在實驗中觀察到。當然，不同的氣體環境其放電的顏色是不同的 。雖然介質阻擋放電已被開發和廣泛的應用，可對它的理論研究還只是近20年來的事，而且僅限於對微放電或對整個放電過程某個局部進行較為詳盡的討論，並沒有一種能夠適用於各種情況DBD的理論。其原因在於各種DBD的工作條件大不相同，且放電過程中既有物理過程，又有化學過程，相互影響，從最終結果很難斷定中間發生的具體過程 。由於DBD在產生的放電過程中會產生大量的自由基和準分子，如OH、O、NO等，它們的化學性質非常活躍，很容易和其它原子、分子或其它自由基發生反應而形成穩定的原子或分子。因而可利用這些自由基的特性來處理VOCs，在環保方面也有很重要的價值。另外，利用DBD可製成準分子輻射光源，它們能發射窄帶輻射，其波長覆蓋紅外、紫外和可見光等光譜區，且不產生輻射的自吸收，它是一種高效率、高強度的單色光源。在DBD電極結構中，採用管線式的電極結構還可製成臭氧O3發生器。21世紀的人們已越來越重視對DBD的研究與應用 。 物 質 介電系數 絕緣強度(kV/mm) Vacuum
Air
Amber
Bakelite
Fused Quartz
Neoprene
Nylon
Paper
Polyethylene
Polystyrene
Porcelain
Pyranol Oil
Pyrex Glass
Ruby Mica
Silicone Oil
Strontium Titanate
Teflon
Titanium Dioxide
Water (20℃)
Water (25℃) 1.00000
1.00054
2.7
4.8
3.8
6.9
3.4
3.5
2.3
2.6
6.5
4.5
4.5
5.4
2.5
233
2.1
100
80.4
78.5 Infinity
0.8
90
12
8
12
14
14
50
25
4
12
13
160
15
8
60
6
-
- 常見物質的介電系數和絕緣強度
射頻低溫等離子體放電（RadioFrequency Plasma Discharge)
射頻低溫等離子體是利用高頻高壓使電極周圍的空氣電離而產生的低溫等離子體。由於射頻低溫等離子的放電能量高、放電的范圍大，現在已經被應用於材料的表面處理和有毒廢物清除和裂解中。射頻等離子可以產生線形放電，也可以產生噴射形放電 。
滑動電弧放電(Glide Arc Discharge or PlasmaArc)產生低溫等離子體
滑動電弧放電等離子體通常應用於材料的表面處理和有毒廢物清除和裂解。下圖中的滑動電弧由一對像圖中所示的延伸弧形電極構成。電源在兩電極上施加高壓引起電極間流動的氣體在電極最窄部分電擊穿。一旦擊穿發生電源就以中等電壓提供足以產生強力電弧的大電流，電弧在電極的半橢圓形表面上向右膨脹，不斷伸長直到不能維持為止。電弧熄滅後重新起弧，周而復始。其視覺觀看滑動電弧放電等離子體就像火焰一般，但其平均溫度卻比較低即使將餐巾紙放在等離子體焰上也不會燃燒。它又被稱為「索梯」(Jacog's Ladder)。滑動電弧放電產生的低溫等離子體為脈沖噴射，但可以得到比較寬的噴射式低溫等離子體炬(plasma torch) 。
射流低溫等離子放電（Jet Discharge)
幾十年來，等離子體炬（plasma torch）的個工業應用已經眾所周知，例如，氬弧焊、空氣等離子體切割機和等離子體噴塗等。這些設備中的核心部件通常稱為等離子體炬，其等離子體中心溫度達數千度，是熱等離子體。近年來，人們為了進行有機材料，例如橡膠表面進行處理，以改善表面附著力，將等離子體炬的技術低溫化和小型化，將熱弧變為冷弧研製成射流低溫等離子表面處理設備，噴槍出口溫度僅數網路，甚至更低，並且已經開始向家用電器和汽車工業推廣應用。有些高技術公司，例如中國的CORONA Lab.將這種技術產品化，可以用於高速在線處理 。1.大氣射流低溫等離子表面處理的原理流經冷弧等離子體射流槍的空氣氣流可以產生包括大量的氧原子在內的氧基活性物質，氧基等離子體照射材料表面，可以使附著於材料表面上的有機污染物C元素的分子分離，並變成二氧化碳後被清除；同時可以提高接觸性能，從而可以提高接合強度和可靠性。2.大氣射流低溫等離子表面處理的工業應用a)不銹鋼薄板對焊處的焊前處理不銹鋼薄板對焊在工業中應用很普遍，例如太陽能熱水器的內桶就是用0.4mm的不銹鋼薄板捲成圓筒對焊製成。為了達到焊接要求，必須對焊接處進行必要的清洗。目前的清洗方法是濕法－人工用化學清洗劑擦洗，清洗成本高，有污染，很難實現自動化。大氣射流低溫等離子清洗技術是干法，運用於薄板對焊的前處理，可代替傳統的人工用化學清洗劑擦拭，降低了清洗成本，可提高焊接質量，減少對環境的污染，可實現焊接區清洗的自動化。b)塑料板的表面處理塑料類，例如木塑是可以代用木材的新型材料，但表面油漆相當不易，這就大大限制了應用范圍。如果用化學方法處理，價格高，污染大。為此，用大氣射流低溫等離子處理則材料表面會發生明顯的變化：顏色略有變淺，反光度降低，呈亞光性；用手觸摸可以感覺到表面略有粗糙；使噴漆的附著性能大大增強。經等離子體處理前後的附著力可以測試。測試方法：用劃刀在待測部件表面劃出垂直井字結構劃痕，用軟毛刷輕刷劃線表面去掉碎沫。用透明膠帶貼於劃線上，膠帶與樣品間應無氣泡，保持1～2分鍾；以約60度角度恆定速度將膠帶撕起。觀察劃線及正方形的完整度以判斷附著力的大小。c)橡膠製品的處理橡膠在我們日常生活中大量使用，例如汽車的門封條。它的表面須要上漆或織絨。如果不經過低溫等離子處理，則不易粘接。如果用化學清洗，既是離線的，又會污染環境。用在線等離子體處理是理想的解決辦法。d)用於玻璃和金屬平板處理空氣等離子體射流可以處理玻璃和金屬表面，不但有效地清除了來自於大氣中浮游灰塵產生的有機污染物，而且改變了表面的性能且持續性足夠長。因而可以提高產品的接合強度。此外，常壓等離子體清洗還可以用於有機材料和金屬材料表面 。
大氣壓下輝光放電(APGD)
經過近20年的發展，低氣壓低溫等離子體已取得了很大進展。但由於其運行需抽真空、設備投資大、操作復雜、不適於工業化連續生產，限制了它的廣泛應用。顯然，最適合於工業生產的是大氣壓下放電產生的等離子體。大氣壓下的電暈放電和介質阻擋放電目前雖然被廣泛地應用於各種無機材料、金屬材料和高分子材料的表面處理中，但卻不能對各種化纖紡織品、毛紡織品、纖維和無紡布等材料進行表面處理。低氣壓下的輝光放電雖然可以處理這些材料，但存在成本、處理效率等問題，目前無法規模化應用於紡織品的表面處理。長期以來人們一直在努力實現大氣壓下的輝光放電(APGD)。1933年德國VonEngel首次報道了研究結果 ，利用冷卻的裸電極在大氣壓氫氣和空氣中實現了輝光放電，但它很容易過渡到電弧，並且必須在低氣壓下點燃，即離不開真空系統。1988年，Kanazawa等人報道了在大氣壓下使用氦氣獲得了穩定的APGD的研究成果，並通過實驗總結出了產生APGD要滿足的三個條件：（1）激勵源頻率需在1kHz以上；（2）需要雙介質DBD；（3）必須使用氦氣氣體。此後，日本的Okazaki、法國的Massines和美國的Roth研究小組分別採用DBD的方法，用不同頻率的電源和介質，在一些氣體和氣體混合物中宣稱實現了大氣壓下「APGD」。1992年，Roth小組在5mm氦氣間隙實現了APGD，並聲稱在幾個毫米的空氣間隙中也實現了APGD,主要的實驗條件為濕度低於15%、氣體流速50l/min、頻率為3kHz的電源並且和負載阻抗匹配。他們認為「離子捕獲」是實現APGD的關鍵。Roth等人用離子捕獲原理解釋APGD，即當所用工作電壓頻率高到半個周期內可在極板之間捕獲正離子，又不高到使電子也被捕獲時，將在氣體間隙中留下空間電荷，它們影響下半個周期放電，使所需放電場強明顯降低，有利於產生均勻的APGD。他們在實驗室的一台氣體放電等離子體實驗裝置中實現了Ar、He和空氣的「APGD」。1993年Okazaki小組利用金屬絲網（絲直徑0.035mm，325目）電極為PET膜（介質）、頻率為50Hz的電源，在1.5mm的氣體（氬氣、氮氣、空氣）間隙中做了大量的實驗，並宣稱實現了大氣壓輝光放電。根據電流脈沖個數及Lisajous圖形（X軸為外加電壓，Y軸為放電電荷量）的不同，他們提出了區分輝光放電和絲狀放電的方法，即若每個外加電壓半周期內僅1個電流脈沖，並且Lisajous圖形為兩條平行斜線，則為輝光放電。若半周期內多個電流脈沖，並且Lisajous圖形為斜平行四邊形，則為絲狀放電。法國的Massines小組、加拿大的Ra小組和俄羅斯的Golubovskii小組對APGD的形成機理也進行了比較深入的研究工作。Massines小組對氦氣和氮氣的APGD進行了實驗研究和數值模擬 ，除了測量外加電壓和放電電流之外，他們用曝光時間僅10ns的ICCD相機拍攝了時間分辨的放電圖像，用時空分辨的光譜測量記錄了放電等離子體的發射光譜，並結合放電過程的一維數值模擬，他們認為，氮氣中的均勻放電仍屬於湯森放電，而氦氣中均勻放電才是真正意義上的輝光放電，或亞輝光放電。他們還認為，得到大氣壓下均勻放電的關鍵是在較低電場下緩慢發展大量的電子雪崩。因此，在放電開始前間隙中必須存在大量的種子電子，而長壽命的亞穩態及其彭寧電離可以提供這些種子電子。根據10ns暴光的ICCD拍攝的放電圖像，Ra小組發現，在大氣壓惰性氣體He、Ne、Ar、Krypton的DBD間隙中，可以實現輝光放電。除了輝光放電和絲狀放電之外，還存在介於前兩者之間的第三種放電模式--柱狀放電 。從上個世紀末，國內許多單位如科羅納實驗室、清華大學、大連理工大學、華北電力大學、西安交通大學、華中科技大學、中科院物理所、河北師范大學等先後開始了對APGD的研究。由於APGD在織物、鍍膜、環保、薄膜材料等技術里域有著誘人的工業化應用前景，在大氣壓下和空氣中實現輝光放電產生低溫等離子體一直是國內外學者探尋的研究重點和熱點。2003年，國家自然科學基金委員會將「大氣壓輝光放電」列為國家重點研究項目。APGD的研究也取得了一些進展，如He、Ne、Ar、Krypton惰性氣體在大氣壓下基本實現了APGD，空氣也已經實現了用眼睛看上去比較均勻的准「APGD」。目前，對APGD的研究結果和認識是仁者見仁，智者見智。APGD的研究方興未艾，已經受到國內外許多大學和研究機構的廣泛重視。由於大氣壓輝光放電目前還沒有一個認可標准，（只要選擇一定的介質阻擋裝置、頻率、功率、氣流、濕度等）許多實驗所看到的放電現象和輝光放電很相似即出現視覺特徵上呈現均勻的「霧狀」放電，而看不到絲狀放電，但這種放電現象是否屬於輝光放電目前還沒有共識和定論 。
次大氣壓下輝光放電(HAPGD)產生低溫等離子體
由於大氣壓輝光放電技術目前雖有報道但技術還不成熟，沒有見到可用於工業生產的設備。而次大氣壓輝光放電技術則已經成熟並被應用於工業化的生產中。次大氣壓輝光放電可以處理各種材料，成本低、處理的時間短、加入各種氣體的氣氛含量高、功率密度大、處理效率高。可應用於表面聚合、表面接枝、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學合成及各種粉、粒、片材料的表面改性和紡織品的表面處理。次大氣壓下輝光放電的視覺特徵呈現均勻的霧狀放電；放電時電極兩端的電壓低而功率密度大；處理紡織品和碳纖維等材料時不會出現擊穿和燃燒並且處理溫度接近室溫。次大氣壓輝光放電技術目前可用於低溫材料、生物材料、異型材料的表面親水處理和表面接枝、表面聚合、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學合成等工藝。由於是在次大氣壓條件下的輝光放電，處理環境的氣氛濃度高，電子和離子的能量可達10eV以上。材料批處理的效率要高於低氣壓輝光放電10倍以上。 可處理金屬、非金屬、（碳）纖維、金屬纖維、微粒、粉末等 。

Ⅳ 什麼是等離子體簡述等離子體的特徵分類及主要參數

等離子體被稱為物質的」第四態「，是一種具有電子，原子，離子或基團的滿足准中性條件的電離氣體。它是區別與常規的固態，液態，氣態的另一種存在。特別是在星際物質當中。在地球上，我們常見的閃電也是等離子體中的一種，是在具有不同電位的雲層之間形成氣體擊穿而產生的火花放電。在地球兩極上，因為太陽風暴（高能粒子風）在經過地球兩極磁極時，高能粒子轟擊空氣中的氧氣，氮氣等氣體，使其電離和激發，後沿地磁線運動，並產生多彩的極光，也屬於等離子體。
等離子體可以由氣體放電產生，也可以使氣體不斷加熱而產生。
按照等離子體的溫度不同可分為高溫等離子體和低溫等離子體。
比如在受控核聚變當中使用托卡馬克磁約束產生的高溫等離子體，其原理就是利用磁場束縛等離子體並使其不斷加熱，最終發生氫核聚變反應。這其實是模擬太陽上時時刻刻的聚變反應，之所以稱為高溫，是因為其芯部溫度可以達到上億度（K, 注11600K相當於1個eV）。
低溫等離子體，比如弧光燈，輝光放電燈，射頻放電等離子體刻蝕機等，這些氣體放電產生的等離子體溫度在幾百K到上千K，遠低於高溫等離子體。
高溫和低溫雖然是根據溫度劃分，但是要區別與我們常見事物的溫度，並不是說低溫就像室溫差一樣。
低溫等離子體中又可以分為熱等離子體和冷等離子體，這是根據等離子體中離子和電子溫度是否處於熱平衡狀態來討論的。熱等離子體說的是電子和離子處於局部熱力學平衡態，它們各自的溫度差不多。比如電弧等離子體焊機所產生的熱等離子體，電子溫度和離子溫度都可達到幾千度。
冷等離子體說的是電子溫度雖然很高可達到上萬度（K），對，是上萬度，然而離子溫度卻有幾百K左右，甚至僅達到室溫。那麼我們之所以感覺不到冷等離子體很熱，是因為其中只有電子溫度很高，而離子和原子溫度較低，電子由於質量過於微小，能量傳遞效率極低，因此我們感覺不到它的溫度，比如大氣壓冷等離子體射流放電可以被用來皮膚殺毒，我們能感受到它的溫度就跟溫水差不多。
等離子體根據其他條件還可以分為強電離和弱電離等離子體，強耦合和弱耦合等離子體，根據密度可分為緻密等離子體和低密度等離子體。比如星際氣體就屬於稀薄低密度等離子體，而慣性約束聚變中利用激光打向靶丸產生的緻密高溫高熱等離子體就屬於高密度等離子體。
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等離子體中的主要參數包括密度，電子溫度，離子溫度，德拜半徑，電離度。這幾個是最重要的參數，那麼診斷這些參數的方法有，電探針，磁探針，發射光譜，吸收光譜，激光誘導熒光，質譜等。
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本回答在其他任何地方都搜所不到，純屬個人理解和手打，本人等離子體物理專業，錯誤難免，謝謝交流。

Ⅳ 核西物院待遇

核工業西南物理研究院建院於1965年，隸屬中國核工業集團公司，是我國最早從事核聚變能源開發的專業研究院，集科學研究、技術開發、人才培養、生產經營於一體。在國家有關部委的支持下，依託核工業體系，經過40多年的努力，擁有完整的進行核聚變能源開發所需的學科及相關實驗室，先後承擔並出色完成國家「四五」重大科學工程項目「中國環流器一號裝置研製」及「十五」「中國環流器二號A(HL-2A)裝置工程建設項目」建設任務，實現了我國核聚變研究由原理探索到大規模裝置實驗的跨越發展，是我國磁約束核聚變領域唯一獲得過國家科技進步一等獎單位。首創的分子束加料技術廣泛應用於JET等國際知名聚變研究裝置，HL-1M（HL-1的改進裝置）裝置實驗研究數據列入ITER實驗資料庫，12種等離子體診斷設施列入國際托卡馬克物理活動（ITPA）組織的診斷資料庫，為我國核聚變能源開發事業做出了重要貢獻。

本院創建於二十世紀六十年代中期，位於四川省樂山市郊區，「七五」期間部分遷至成都市，九十年代於成都市近郊新建了聚變研究實驗基地，2000年與成都理工大學合作在樂山基地創辦了「成都理工大學樂山學院」，該學院2003年發展為「成都理工大學工程技術學院」。全院現有職工1700餘人，科技人員1190人，其中中國科學院院士1人,研究員66人，副研究員及高級工程師164人，中級研究人員357人。

本院主要科研方向是磁約束受控核聚變，包括等離子體約束、平衡、加熱實驗與理論研究以及高壓大電流、超高真空、強磁場、強流離子源、微波加熱、自動控制、復雜信息獲取與處理、低溫深冷、超導、大型電物理裝置設計建造與維護維修、聚變堆工藝與材料等方面的研究。經過近40年的艱苦奮斗，建成了22個受控核聚變等離子體實驗研究裝置，開展了一系列物理實驗。特別是1984年建成的中國環流器一號（HL－1）和1994年建成的中國環流器新一號（HL－1M）兩個中型托卡馬克裝置及其實驗研究成果，代表了當時我國磁約束聚變實驗研究的水平，處於國際上同類型、同規模裝置的先進行列。我國第一個具有偏濾器位形的托卡馬克裝置中國環流器二號 A（HL－2A）於 2002年建成,利用該裝置開展國際前沿物理實驗必將把我國核聚變實驗研究的整體水平和國際地位提升到一個嶄新的高度。本院自「七五」以來，承擔的國家「863」高技術項目「聚變－裂變混合堆研究」也取得了豐碩成果，倍受國際聚變界關注。

80年代中期，本院部份科技人員轉向國民經濟建設主戰場，致力於核聚變與等離子體應用技術的成果轉化，已成功地開發出材料改性多功能離子注入機系列、等離子體鍍膜機系列、低溫改性處理機、低溫冷凝吸附泵、多媒體大屏幕顯示屏、核磁共振成像稀土永磁體及超導磁體、真空計等高新技術產品 及相關的新技術、新工藝，廣泛應用於工業、科研與日常生活等領域，具有很高的經濟效益和社會效益。

本院的研究與開發工作堅持高起點、高標准,瞄準國際前沿課題與先進水平，廣泛利用國際合作,取得了一大批具有特色的科技成果。目前已與國際原子能機構及美國、德國、日本、俄羅斯、英國、法國等30多個國際組織和國家的科研機構、大學及企業建立了合作關系。每年都有外藉科學家來院講學、進行學術交流或短期技術合作。自改革開放以來我院先後派出600多人次赴國外工作、進修和學術交流。建院40多年來,全院已取得了5000多項科研成果，獲部省級成果獎400多項，獲國家科技進步獎18項，其中國家科技進步一等獎1項，二等獎3項。

本院十分注重人才培養，分別於1978年和1986年經國務院學位委員會和國家教育部批准招收、培養碩士研究生和博士研究生，並於1999年經全國博士後管理委員會批准建立博士後流動站，已培養出200餘名碩士、70餘名博士研究生。此外，選派優秀科技工作者到國內外進修也是本院培養人才的重要途徑。2000年經四川省教育廳批准， 成都理工大學在本院樂山基地建立了樂山學院 ，2003年發展為成都理工大學工程技術學院 ，從事碩士、本、專科學歷教育。

至於機械專業 該院前途不錯 但並不是最主要專業 並不是太好
至於待遇 不太好說 要看學歷及工作能力 以及職業種類選擇
機械專業前景比較客觀 但前提是技術與學院推薦等

Ⅵ 等離子體和微波等離子體兩者有什麼區別

微波誘導微放電源是基於「微波帶」技術在大氣壓環境下產生的一種微等離子體,
它被廣回泛應用於氣相色譜中原子答發射光譜激發源.
微波帶技術的使用不僅可以將微波精確指向間隙區,
同時也減少了不必要的外空間輻射損失,有利於耦合效率的提高,
從而獲得高密度等離子體.

Ⅶ 等離子產生溫度大約是多少

冰升溫至0℃會變成水，如果繼續使溫度上升至100%，那麼水就會沸騰成為水蒸氣。我們知道，隨著溫度的上升，物質的存在狀態一般會呈現出固態→液態→氣態三種物態的轉化過程，我們把這三種基本形態稱為物質的三態。那麼對於氣態物質，溫度升至幾千度時，將會有什麼新變化呢? 由於物質分子熱運動加劇，相互間的碰撞就會使氣體分子產生電離，這樣物質就變成由自由運動並相互作用的正離子和電子組成的混合物(蠟燭的火焰就處於這種狀態)。我們把物質的這種存在狀態稱為物質的第四態，即等離子體(plasma)。因為電離過程中正離子和電子總是成對出現，所以等離子體中正離子和電子的總數大致相等，總體來看為准電中性。反過來，我們可以把等離子體定義為：正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。

從剛才提到的微弱的蠟燭火焰，我們可以看到等離子體的存在，而夜空中的滿天星斗又都是高溫的完全電離等離子體。據印度天體物理學家沙哈(M·Saha，1893-1956)的計算，宇宙中的99.9%的物質處於等離子體狀態。而我們居住的地球倒是例外的溫度較低的星球。此外，對於自然界中的等離子體，我們還可以列舉太陽、電離層、極光、雷電等。在人工生成等離子體的方法中，氣體放電法比加熱的辦法更加簡便高效，諸如熒光燈、霓虹燈、電弧焊等等。給出了主要類型的等離子體的密度和溫度的數值。從密度為106(單位：個／m3)的稀薄星際等離子體到密度為1025的電弧放電等離子體，跨越近20個數量級。其溫度分布范圍則從100 K的低溫到超高溫核聚變等離子體的108-109K(1-10億度)。溫度軸的單位eV(electron volt)是等離子體領域中常用的溫度單位，1 eV=11 600 K。

通常，等離子體中存在電子、正離子和中性粒子(包括不帶電荷的粒子如原子或分子以及原子團)等三種粒子。設它們的密度分別為ne ,ni ,nn ，由於 (准電中性)，所以電離前氣體分子密度為ne ≈ nn。於是，我們定義電離度β = ne / (ne + nn)，以此來衡量等離子體的電離程度。日冕、核聚變中的高溫等離子體的電離度都是100%，像這樣β =1的等離子體稱為完全電離等離子體。電離度大於1% (β≥10-2 )的稱為強電離等離子體，像火焰中的等離子體大部分是中性粒子(β <10-3 )，稱之為弱電離等離子體。

若放電是在接近於大氣壓的高氣壓條件下進行，那麼電子、離子、中性粒子會通過激烈碰撞而充分交換動能，從而使等離子體達到熱平衡狀態。若電子、離子、中性粒子的溫度分別為了Te，Ti，Tn，我們把這三種粒子的溫度近似相等(Te ≈ Ti ≈ Tn)的熱平衡等離子體稱為熱等離子體(thermal plasma)，在實際的熱等離子體發生裝置中，陰極和陽極間的電弧放電作用使得流入的工作氣體發生電離，輸出的等離子體呈噴射狀，可用作等離子體射流(plasma jet)、等離子體噴焰(plasma torch)等。

另一方面，數百帕以下的低氣壓等離子體常常處於非熱平衡狀態。此時，電子在與離子或中性粒子的碰撞過程中幾乎不損失能量，所以有Te>>Ti , Te>>Tn。我們把這樣的等離子體稱為低溫等離子體(cold plasma)。當然，即使是在高氣壓下，低溫等離子體還可以通過不產生熱效應的短脈沖放電模式來生成。

生成條件:高溫使得固體或液體變為氣體，然後可以在進一步的高溫或者微波的轟擊、高速電子的轟擊（也就是高壓放電）的條件下轉化為等離子態。因此這種條件完全取決於被轉化為等離子體的物質自身特性。

Ⅷ 誘變的物理誘變

物理誘變劑主要有紫外線，—射線，γ-射線，快中子，激光，微波，離子束等。 常壓室溫等離子體（Atmospheric and Room Temperature Plasma）的簡稱，（縮寫為ARTP）能夠在大氣壓下產生溫度在25-40 °C之間的、具有高活性粒子（包括處於激發態的氦原子、氧原子、氮原子、OH自由基等）濃度的等離子體射流。按照熱力學平衡狀態，等離子體可分為三種：完全熱力學平衡等離子體（也稱高溫等離子體，其電子溫度（Te）、離子溫度（Ti）和中性粒子溫度（Tn）完全一致），局部熱力學平衡等離子體（也稱熱等離子體，Te≈Ti≈Tn=3×10~3×10），以及非熱力學平衡等離子體（也稱冷等離子體，其Te≥Ti，Ti≈Tn）。
大氣壓輝光放電（Atmospheric Pressure Glow Discharge，APGD）是一個被廣泛使用的、用來描述大氣壓條件下各種氣體放電冷等離子體的總稱。在各種大氣壓非平衡放電等離子體源中，採用裸露金屬電極結構的大氣壓射頻輝光放電（Radio Frequency Atmospheric Pressure Glow Discharge，RF APGD）等離子體源是近幾年提出的一種新的大氣壓輝光放電冷等離子體源。為了從生物技術應用的角度突出這種等離子體源的特點，採用常壓室溫等離子體即ARTP來代表這種RF APGD等離子體源。
科學研究表明，等離子體中的活性粒子作用於微生物，能夠使微生物細胞壁/ 膜的結構及通透性改變，並引起基因損傷，進而使微生物基因序列及其代謝網路顯著變化，最終導致微生物產生突變。與傳統誘變方法相比，採用ARTP能夠有效造成DNA多樣性的損傷，突變率高，並易獲得遺傳穩定性良好的突變株；
ARTP是常壓室溫等離子體（Atmospheric and Room Temperature Plasma）的簡稱，能夠在大氣壓下產生溫度在25-40 °C之間的、具有高活性粒子（包括處於激發態的氦原子、氧原子、氮原子、OH自由基等）濃度的等離子體射流。

Ⅸ 口腔醫學畢業論文有哪些選題

口腔醫學畢業論文題目一：

1、伴有或不伴有下頜偏斜的骨性Ⅲ類成人患者顳下頜關節形態和位置的CBCT研究
2、口腔錐形束CT對下頜牙種植位點線性測量精度的實驗研究
3、牙齦卟啉單胞菌感染牙周膜成纖維細胞的體外實驗研究
4、無牙頜種植修復臨床回顧性研究及無牙頜種植固定修復咬合初步分析
5、產前暴露於納米氧化鋅對大鼠子代腦發育及成年期行為學特性的影響
6、我國入選PubMed資料庫的生物醫學期刊文獻計量學分析
7、電針治療對顳下頜關節紊亂綜合症大鼠TNF-α、IL-1β影響的研究
8、86例腮腺多形性腺瘤外科治療的回顧和分析
9、口腔黏膜潛在惡性疾患的臨床診治新觀點
10、翼外肌在髁突矢狀骨折癒合中對髁突應力分布作用的三維有限元研究
11、T-Scan應用於牙根縱裂患者咬合特徵分析的初步研究
12、正畸治療對不同類型錯（牙合）畸形患者口腔健康生活質量的影響
13、成人正頜手術前後的心理特徵及滿意度的相關性研究
14、不同牙面處理方法對窩溝封閉劑微滲漏的影響
15、自鎖托槽矯治器與直絲弓托槽矯治器排齊牙列的對比研究
16、構建3D列印牙齒模型及其形態模擬性研究
17、錐形束CT對下頜乳磨牙牙根及根管形態的研究
18、F大學口腔醫學博士學位論文內容和質量研究
19、口腔醫學專業人文素質教育現狀調查及課程教學發展策略
20、口腔醫學本科畢業考核中多站式考試的設計及效果評價研究
21、血鏈球菌細菌素對光滑念珠菌力學性質的影響
22、乳牙根中1/3折保守治療的應用研究
23、牙髓切斷術與牙髓摘除術在深齲露髓乳磨牙臨床治療中的對比研究
24、整合牙頜模型三維重構及其應用研究
25、江西省口腔醫療服務能力調查分析
26、玻璃纖維樁不同粘接方法粘接強度的系統評價和Meta分析
27、牙與固定修復體的動力學研究--振動分析和疲勞測試
28、口腔醫學專業人才培養方案及系列課程綜合改革研究
29、氣電紡蠶絲蛋白納米纖維的制備與組織工程研究
30、張應力誘導大鼠骨髓間充質幹細胞骨向分化的實驗研究
31、可摘局部義齒支架計算機輔助設計與製作的初步研究
32、磁性附著體靜磁場對人牙齦成纖維細胞和人牙周膜成纖維細胞生物學效應的基礎研究
33、等離子浸沒注入和多弧離子鍍對純鈦及鈦合金錶面改性的基礎研究
34、口腔衛生服務現況評價與口腔衛生人力預測研究
35、自製鑄鈦包埋材料鑄造工藝與鑄鈦修復體鑄造精度的研究

口腔醫學畢業論文題目二：

36、口腔修復學教學及臨床三維多媒體平台的建立
37、應用激光快速成形技術製作全口義齒鈦基托的實驗研究
38、納米羥基磷灰石復合改性材料的制備及其抗齲性能研究
39、髁突在咬合載荷作用下的應力效應
40、磨牙烤瓷熔附金屬全冠的有限元分析
41、固定義齒的臨床應用及並發症
42、三種不同合金在人工唾液中耐腐蝕性能的研究
43、具有特色的中國高等口腔醫學教育課程體系和教學內容改革探討
44、第三代二膦酸鹽（伊班膦酸鈉）對正畸源性根吸收的作用研究
45、觀察TT/TTB比色訓練系統對口腔醫學生比色准確率的影響
46、軍隊老幹部口腔健康狀況及其影響因素的調查研究
47、昆明醫科大學附屬口腔醫院服務營銷策略研究
48、人工牙的三維重建及其交互實現
49、應用不同類型附著體的下頜種植覆蓋義齒的系統評價
50、牙釉質酸蝕技術在正畸臨床中應用的系統評價
51、口腔醫學數字影像處理及輔助診療系統
52、富血小板血漿（PRP）常溫保存理化指標及PDGF-AB、TGF-β1含量變化的研究
53、長沙市開福區2~4歲兒童齲病流行情況調查及其相關因素分析
54、RP技術在口腔醫學中的應用研究
55、添迦納米二氧化鈦對硅橡膠抗菌性影響的實驗研究
56、齒科鈦金屬的激光焊接性及接頭應力有限元模擬
57、第一恆磨牙齲病流行病學調查和窩溝封閉預處理技術評價
58、不同年齡人群上頜第一磨牙咬合生理特徵的初步研究
59、邢台市大學生口腔健康情況及其影響因素調查分析
60、基於虛擬環境的口腔實驗教學模式研究
61、「第四屆中國-東盟國際口腔醫學交流與合作論壇」翻譯實踐報告
62、針對期刊的多類型信息計量指標實證研究
63、基於患者滿意度的牙齒漂白方案的比較研究
64、改性納米氧化鈰對義齒樹脂基托機械性能的影響
65、ICON評價新疆口腔醫學生正畸需要量及難度
66、Raypex5根尖定位儀測量根管工作長度的臨床評價
67、醫學專科院校新生口腔健康知識與行為調查分析
68、小鼠骨髓間充質幹細胞懸液短期保存的可行性及DNA酶Ⅰ預處理降低靜脈注射風險性研究
69、商業口腔醫療保險需求調查分析與兒童牙科保險方案設計
70、我國口腔衛生法規和政策需求調查評估與發展策略

口腔醫學畢業論文題目三：

71、人根尖乳頭幹細胞與牙髓幹細胞體外生物學特性的比較研究
72、城、鄉患錯（牙合）畸形初中生自我意識和社交焦慮影響的分析研究
73、比較不同附著體應用於下頜種植覆蓋義齒臨床療效的系統評價研究
74、椎束CT測量頜骨密度及評估種植體初期穩定性的可行性研究
75、等離子滲氮/氮化鈦鍍膜對純鈦鑄件耐腐蝕性能影響的研究
76、基於TOP-HAT演算法口腔醫學圖像的數據處理
77、醫學科學學位研究生課程設置的研究
78、納米非晶金剛石薄膜對牙科用純鈦及鈷鉻合金耐腐蝕性能的影響
79、下頜前磨牙樁核冠的有限元分析
80、恆牙列早期骨性Ⅲ類錯（牙合）畸形不同骨面型垂直向特徵的頭影測量分析
81、基於DICOM的口腔醫學影像存儲管理系統的研究與實現
82、牙體組織精細三維有限元模型建立及應用的初步研究
83、顳下頜關節開口運動的生物力學研究
84、不同正畸力作用下大鼠行為反應與牙根吸收的相關研究
85、牙合墊治療對深覆牙合的TMD患者顳下頜關節應力分布影響的有限元分析
86、顳下頜關節盤穿孔外科治療的臨床及影像學研究&病例報告
87、圖像融合技術建立顳下頜關節有限元模型的生物力學分析研究
88、人下頜第一磨牙牙冠-牙周膜三維精細形態的初步研究
89、應用顴牙槽嵴種植體支抗進行上頜全牙列遠移的三維有限元研究
90、應用Q方法探究成人正畸患者的矯治動機
91、All-on-4種植體位置分布對周圍骨應力影響的三維有限元分析
92、模擬重度四環素牙瓷貼面修復的色彩管理
93、基於CBCT高效建立個性化上頜骨三維有限元模型的初步研究
94、三種矢狀骨面型青少年在快速生長期上氣道頭影測量研究
95、開窗術和刮治術治療牙源性頜骨囊腫的系統評價
96、近β鈦合金TLM雙層輝光離子滲氮表面改性的實驗研究
97、傾斜種植體與軸向種植體聯合修復義齒的系統評價
98、我軍陸軍師口腔保健現狀典型調查與發展策略研究
99、IPSe
100、TNF-α對SCAP與PDLSCs體外增殖活性影響的比較研究
101、烏魯木齊市613例維吾爾族患者牙齒磨耗程度的調查研究
102、咬合異常與顳下頜關節紊亂病相關性研究
103、牙髓幹細胞對牙髓牙本質復合體再生修復作用的研究
104、套筒冠義齒修復孤立基牙的三維有限元應力分析
105、新疆醫科大學維吾爾族及漢族大學生顳下頜關節紊亂與心理因素的相關性研究

口腔醫學畢業論文題目四：

106、單側下頜第一磨牙缺失對咀嚼肌肌電的影響
107、漢族人上頜中切牙牙根直徑及根管管徑與年齡相關性的初步研究
108、錐形束CT結合沖擊式氣動手機在微創拔除上頜前部埋伏牙中的應用
109、單側第一磨牙缺失對咬合及下頜骨對稱性的影響及兩者相關性的研究
110、雙側單磨牙漸進性咬合紊亂對大鼠髁突軟骨厚度及軟骨中PCNA、OCN、BMP-2表達的影響
111、關中地區漢族人群恆牙形態學研究
112、單端固定橋修復下頜游離端缺牙的光彈性分析
113、激光快速成形技術製作純鈦基底冠的可行性實驗研究
114、激光快速成形技術製作鎳鉻合金基底冠的可行性實驗研究
115、口腔測量數據三維可視化技術研究
116、新型口腔領域專用激光燒結成型蠟初步研究
117、我國1950-2005年齲病研究文獻分析
118、蘇木、滇重樓、丁香對牙菌斑生物膜影響的體外研究
119、漢族人群上頜第一前磨牙牙根及根管形態學研究
120、玻璃纖維樁長度和纖維含量對牙體抗折強度的影響
121、前牙美學修復病例報告
122、頜面創傷致神經損傷的臨床研究
123、新疆維吾爾族自治區口腔醫療機構及人力資源現況調查
124、顱底結構特徵與矢狀向錯（牙合）的相關研究
125、口腔衛生士培養標准和課程設置研究
126、偏側咀嚼患者的下頜運動特性分析
127、中國東鄉族、保安族、裕固族口腔疾病流行病學研究
128、利用增齡性定量指標判定華中地區青少年生理年齡的研究
129、個體化舌側矯治器微種植體支抗滑動法內收上前牙的生物力學特徵研究
130、中葯復方提取液對牙周可疑致病菌和人牙周膜細胞作用的臨床和實驗研究
131、納米銀顆粒和PLGA共塗層的不銹鋼合金在抗菌和骨誘導方面的作用研究
132、精神心理因素與顳下頜關節紊亂病的關聯研究
133、義齒模型三維重建演算法的研究
134、閉合式上頜竇底提升術上頜竇黏膜力學研究
135、大氣壓常溫等離子體射流源及其在根管治療中的應用研究
136、改良富血小板血漿對乳牙牙髓幹細胞增殖和成骨分化的作用研究
137、Twin-block矯治器矯治青少年安氏Ⅱ類1分類錯（牙合）療效的系統評價
（來源：學術堂）