蒸镀设备是干什么的

❶ 如何区别溅镀设备和蒸镀设备

自问自答吧:溅镀设备必须用到惰性气体;而蒸镀就不用;蒸镀设备集中,而溅镀设备可以很线型;
查看原帖>>

❷ 什么是真空镀膜技术

所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
一、镀膜的方法及分类
在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。
主要分为一下几类：
蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。
蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。
蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。
为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图]。喷射炉中装有分子束源，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜最慢生长速度可控制在1单层／秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。
溅射镀膜：用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二极溅射设备如图3[ 二极溅射示意图]。通常将欲沉积的材料制成板材——靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽至高真空后充入 10-1帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。基片装在接地的电极上，绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地，一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后，高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。由于电子迁移率高于正离子，绝缘靶表面带负电，在达到动态平衡时，靶处于负的偏置电位，从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。
离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图],将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如氩）以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95％）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。
二、薄膜厚度的测量
随着科技的进步和精密仪器的应用，薄膜厚度测量方法有很多，按照测量的方式分可以分为两类：直接测量和间接测量。直接测量指应用测量仪器，通过接触（或光接触）直接感应出薄膜的厚度。
常见的直接法测量有：螺旋测微法、精密轮廓扫描法（台阶法）、扫描电子显微法（SEM）；
间接测量指根据一定对应的物理关系，将相关的物理量经过计算转化为薄膜的厚度，从而达到测量薄膜厚度的目的。
常见的间接法测量有：称量法、电容法、电阻法、等厚干涉法、变角干涉法、椭圆偏振法。按照测量的原理可分为三类：称量法、电学法、光学法。
常见的称量法有：天平法、石英法、原子数测定法；
常见的电学法有：电阻法、电容法、涡流法；
常见的光学方法有：等厚干涉法、变角干涉法、光吸收法、椭圆偏振法。
下面简单介绍三种：
1. 干涉显微镜法
干涉条纹间距Δ0，条纹移动Δ，台阶高为t=(Δ/Δ0 )*0.5λ，测出Δ0 和Δ，即可，其中λ为单色光波长，如用白光，λ取 530nm。

2. 称重法
如果薄膜面积A，密度ρ和质量m可以被精确测定的话，膜厚t就可以计算出来：
d=m/Aρ。
3 石英晶体振荡器法
广泛应用于薄膜淀积过程中厚度的实时测量，主要应用于淀积速度，厚度的监测，还可以反过来（与电子技术结合）控制物质蒸发或溅射的速率，从而实现对于淀积过程的自动控制。
对于薄膜制造商而言，产品的厚度均匀性是最重要的指标之一，想要有效地控制材料厚度，厚度测试设备是必不可少的，但是具体要选择哪一类测厚设备还需根据软包材的种类、厂商对厚度均匀性的要求、以及设备的测试范围等因素而定。
三、真空镀膜机保养知识：
1. 关闭泵加热系统，然后分离蒸镀室（主要清洁灰尘，于蒸镀残渣）
2. 关闭电源或程序打入维护状态
3. 清洁卷绕系统（几个滚轴，方阻探头，光密度测量器）
4. 清洁中罩室（面板四周）
5. 泵系统冷却后打开清洁（注意千万不能掉入杂物，检查泵油使用时间与量计做出更换或添加处理）
6. 检查重冷与电气柜设备
这次实习给了我们了解了镀膜技术的原理、技术，使我们了解了工厂的生产，感觉很新颖，收获很多。

❸ 真空蒸发镀膜做什么的

蒸发镀膜设来备与技术真自空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域,JTPZ多功能镀膜技术及设备（加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机），针对汽车、摩托车灯具而设计的，在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜，这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事国防保护膜；防潮增透膜；防锈抗腐蚀；耐磨增硬膜。   用户选择在灯具基体上喷底漆、镀铝膜、镀保护膜或灯具基体在真空室进行前处理（不喷底漆）、镀铝膜、镀保护膜工艺。在ABS,PC,PBT,PE,PP,PA66等塑料基体上直接镀膜，不需喷底漆，也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备），在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀，去离子水中浸饱96小时铝层不脱落。

❹ 蒸发镀膜设备里的离子原有什么作用

蒸发镀膜设备里的离子源的主要作用有：

1. 使薄膜与工件同时存在物理气相沉积和化学反版应，镀层结合权力高。

2. 使所镀膜层均匀致密，韧性好。

3. 膜层光谱特性稳定，温度漂移小。

4. 吸水性减少。

5. 膜层折射率提高。

6. 膜层表面粗糙度降低。

7. 激光阈值减低。

❺ 蒸镀的蒸镀工艺

1、cvd用原料化合物及其制造方法及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀法
2、cvd用原料化合物及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
3、cvd用原料化合物以及钌或钌化合物薄膜的化学气相蒸镀方法
4、彩色阴极射线管及其制造方法和蒸镀用复合材料
5、层压薄膜和使用它的蒸镀薄膜
6、除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法
7、带有磁铁的等离子体的连续蒸镀装置
8、等离子体蒸镀设备防止凝缩装置
9、电激发光显示板的制造方法及蒸镀遮罩
10、电激发光元件的制造方法及蒸镀遮罩
11、改进型蒸镀方法
12、高温超导薄膜双面蒸镀技术及其装置
13、金属蒸镀薄膜、其制造方法及使用它的电容器
14、利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装备的电极固定装置
15、利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法
16、利用蒸镀夹具的手机外壳emi层真空蒸镀方法及夹具
17、连续式蒸镀溅镀机
18、免蒸镀的硬式带式自动焊接封装方法
19、锌蒸镀薄膜及金属化薄膜电容器
20、掩模蒸镀方法及装置、掩模及其制造方法、显示板制造装置
21、氧化镁蒸镀材料
22、一氧化硅蒸镀材料及其制造方法、制造原料和制造装置
23、一氧化硅蒸镀材料及其制造方法
24、一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法
25、一种用于半导体激光器腔面蒸镀的非接触固定方式的夹具
26、阴极电弧蒸镀方式淀积类金刚石碳膜的制备方法
27、用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜
28、用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法
29、用于生产高折射率光学涂层的蒸镀用材料
30、用于制作有机电致发光显示器的蒸镀装置
31、有机el元件制造用蒸镀装置的室内的清洗方法
32、有机场致发光膜蒸镀用蒸镀源
33、有机发光二极管蒸镀机台
34、有机膜蒸镀方法
35、在光学基片上蒸镀镀膜的方法
36、在光学基片上蒸镀镀膜的真空镀膜设备
37、真空电弧蒸镀方法及装置
38、真空蒸镀设备用的蒸镀装置
39、蒸镀材料及其利用该材料制造光学薄膜
40、蒸镀材料其制备方法和用该材料制备光学涂层方法
41、蒸镀方法及显示装置的制造方法
42、蒸镀方法及蒸镀装置
43、蒸镀膜
44、蒸镀掩模及制法、显示装置及制法以及具有其的电子机器
45、蒸镀用坩锅
46、蒸镀用掩模及其制造方法
47、蒸镀装置
48、蒸镀装置
49、蒸镀装置
50、蒸镀装置
51、直接蒸镀用树脂组合物、使用该组合物的模塑制品以及表面金属化处理的灯罩
52、制作电致发光显示器的、使用电磁铁的蒸镀装置及采用此装置的蒸镀方法

❻ 真空蒸镀的设备

可用的金属蒸发源包括电阻加热、感应蒸发、电子束枪，以及真空电版弧。电阻加热的钨丝权是最常用的方式。钨丝放置于要求位置，获得均匀的覆盖，铝屑或切段放置在钨丝上。蒸发金属也可放置在加热艇或坩锅内。
蒸镀通常可以在圆柱形涂镀室内分批进行。涂镀室直径可达几米，取决于涂镀零件的大小和数量。零件可以绕蒸汽源做行星运动，以在零件各边均匀地涂镀金属层。如果需要的话，不需涂镀的区域可使用隔膜，通常是金属板。

❼ 我是新手，主要工作是找买家和代理商，我们公司是经营真空镀膜设备及配件，比如蒸发镀膜机，光学镀膜机等

坦白来讲，镀膜机如果是进口的，新手是难以打入市场的，如果是国内产的，实际上只容有现代南光，国投南光还可以，其他牌子的，没有什么竞争力。因为进口的都是老外在做市场销售，而国产的各厂家水平有限，两个南光是以前老南光积累下来的实力，其他的比如三束，北仪等，在自动化控制方面和电传可靠性上没有优势。
如果是配件，仅限于一种牌子设备的话，你只能找销售记录，哪里有就找哪里。如果是通用品，比如灯丝，真空管，坩埚等消耗品，要先找到各个光学公司，从人入手，做好公关。这个行业做的比较明，厂家本来就少，有实权的一般都有比较稳定的供应商合作，新手是要交学费的。

❽ 真空镀膜机是干什么用的

真空镀膜机 主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种版类，包括真空离子蒸发权，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种

适用范围：
1．建筑五金：卫浴五金（如水龙头）．门锁．门拉手．卫浴、五金合叶、家具等。
2．制表业：可用于表壳．表带的镀膜、水晶制品。
3．其它小五金：皮革五金．不锈钢餐具．眼镜框、刀具、模具等．
4．大型工件：汽车轮毂、不锈钢板．招牌．雕塑等。
5、不锈钢管和板（各种类型表面）
6、家具、灯具、宾馆用具。
7、锁具、拉手、卫浴五金、高尔夫球头、不锈钢餐具、器血等五金制品镀超硬装饰膜。
8、手表、表带、眼镜、首饰等装饰品镀超耐磨装饰（金银）纳米膜和纳米膜和纳米叠层膜。

操作程序：
真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。

❾ 从韩国进口OLED蒸镀设备生产设备成本高吗

这个具体要看你买的是新的还是旧的，旧的相对来说成本低一些，我司可以辅助做全程的运输和进口代理。

❿ 真空电镀设备是什么有什么用

真空电镀主要包括：
真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。常见的塑胶产品电镀工艺有两种：水电镀和真空离子镀. 真空离子镀，又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高．而相对其他的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，现在为各行业广泛采用．
真空电镀适用范围
真空电镀适用范围较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.现对其工艺流程作简要介绍：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装.
真空电镀的做法
一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分．另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况．喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现． 真
空电镀可分为：
一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、溅镀、枪色等.
应用举例：
PC料耐温130度，只有“真空电镀+UV油光固”才可达到耐130度高温要求。而一般的水电镀是无法对PC料进行电镀的！
编辑本段真空电镀工艺
真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。 加热金属的方法：有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。 在对塑料制品实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。 置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。 在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。 镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%