膜材表面滑度用什么仪器检测

Ⅰ 如何选购适合使用的涂层测厚仪呢

涂层测厚仪的选型方法：

可以根据测量的需要选用不同的测厚仪，磁性测厚仪和涡流测厚仪一般测量的厚度适用0-5毫米，这类仪器又分探头与主机一体型，探头与主机分离型，前者操作便捷，后者适用于

测非平面的外形。更厚的致密材质材料要用超声波测厚仪来测，测量的厚度可以达到0.7-250毫米。电解法测厚仪适合测量很细的线上面电镀的金，银等金属的厚度。

1、两用型，集合了磁性测厚仪和涡流测厚仪两种仪器的功能，可用于测量铁及非铁金属基体上涂层的厚度。如：（1）钢铁上的铜、铬、锌等电镀层或油漆、涂料、搪瓷等涂层厚度。（2）铝、镁材料上阳极氧化膜的厚度。（3）铜、铝、镁、锌等非铁金属材料上的涂层厚度。（4）铝、铜、金等箔带材及纸张、塑料膜的厚度。（5）各种钢铁及非铁金属材料上热喷涂层的厚度。仪器特点：采用双功能内置式探头，自动识别铁基或非铁基体材料，并选择相应的测量方式进行精确测量。符合人体工程学设计的双显示屏结构，可以在任何测量位置读取测量数据。采用手机菜单式功能选择方式，操作十分简便。可设定上下限值，测量结果超出或符合上下限数值时，仪器会发出相应的声音或闪烁灯提示。稳定性极高，通常不必校正便可长期使用。

2、常规型。对材料表面保护、装饰形成的覆盖层，如涂层、镀层、敷层、贴层、化学生成膜等，在有关国家和国际标准中称为覆层（coating）。

覆层厚度测量已成为加工工业、表面工程质量检测的重要一环，是产品达到优等质量标准的必备手段。为使产品国际化，我国出口商品和涉外项目中，对覆层厚度有了明确的要求。覆层厚度的测量方法主要有：楔切法，光截法，电解法，厚度差测量法，称重法，X射线荧光法，β射线反向散射法，电容法、磁性测量法及涡流测量法等。这些方法中前五种是有损检测，测量手段繁琐，速度慢，多适用于抽样检验。X射线和β射线法是无接触无损测量，但装置复杂昂贵，测量范围较小。因有放射源，使用者必须遵守射线防护规范。X射线法可测极薄镀层、双镀层、合金镀层。β射线法适合镀层和底材原子序号大于3的镀层测量。电容法仅在薄导电体的绝缘覆层测厚时采用。随着技术的日益进步，特别是近年来引入微机技术后，采用磁性法和涡流法的测厚仪向微型、智能、多功能、高精度、实用化的方向进了一步。测量的分辨率已达0.1微米，精度可达到1%，有了大幅度的提高。它适用范围广，量程宽、操作简便且价廉，是工业和科研使用最广泛的测厚仪器。采用无损方法既不破坏覆层也不破坏基材，检测速度快，能使大量的检测工作经济地进行。

厦门欣锐仪器仪表有限公司是一家多年从事进口仪器仪表设备销售的贸易公司，公司AR930涂层测厚仪采用了磁性测厚法，是一种便携式涂覆层测厚仪，它能快速无损伤、精确地进行铁磁性金属基体上的非磁性(如油漆、电渡层等)覆层厚度上的测量。被广泛地用于制造业、金属加工业、化工业、商检等检测领域。

Ⅱ 现在要买薄膜测量仪的话，买哪个厂家的好

如果对厚度测量的要求不是特别精确，那么台阶仪相对较高，那么就使用椭偏仪。
光学薄膜测厚仪(光谱测厚仪系列)核心技术介绍及原理讲解广州金都科恩精密仪器有限公司为您解答:光谱测厚仪系列具有非接触无损测量、无需样品预处理、软件支持Windows操作系统等特点，ST系列是一种使用可见光测量在晶片和玻璃等基底上形成的氧化膜、氮化膜、光刻胶和其他非金属膜厚度的仪器。测量原理如下:用可见光垂直照射待测晶片或玻璃上的薄膜。在此期间，一部分光在薄膜表面反射，另一部分光穿透到薄膜内部，然后在薄膜与底层(晶片或玻璃)的界面反射。此时，从薄膜表面反射的光和从薄膜底部反射的光发生干涉。SpectraThick系列就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。仪器的光源为钨灯，波长范围为400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用这个原理，测量区域的直径是4微米到40微米(2微米到20微米可选)。ST8000-Map作为K-MAC最重要的产品之一，具有图像处理功能，是超越一般膜厚测量仪极限的新概念测厚仪。被测区域的最小直径为0.2μm，远远超过一般测厚仪的测量极限(4μm)。只有依次测量几十个点才能得到的厚度图，也可以一次测量得到，大大提高了速度和精度。这项技术已经获得专利。韩国K-MAC SpectraThick系列的另一个优点是在一般仪器无法测量的粗糙表面(如铁板、铜板)上形成的膜厚也可以测量。这是一种叫做视觉厚度的新概念的测量原理。除了测量薄膜厚度之外，它还具有测量透射率、在玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻、接触角等功能。目前国内外半导体行业和光刻胶行业很多知名企业都选择了K-MAC膜厚仪。广州金都科恩精密仪器有限公司是中国的总代理，您可以通过访问企业网站了解更多关于不同应用仪器的信息。。产品说明:本仪器是将紫外-可见光照射在被测物体上，利用被测物体反射的光来测量薄膜厚度的产品。本产品主要用于导电膜领域的研发或生产，特别是作为半导体在线监测仪器及相关显示工作。产品特点1)由于使用的是光，所以是非接触、非破坏性的，不会影响实验样品。2)可以获得薄膜的厚度和n、k数据。3)测量快速准确，不需要对测量用实验样品进行破坏或处理。4)可以测量3层以内的多层膜。5)可根据应用自由选择手动或自动类型。6)产品风格多样，也可根据客户要求设计产品。7)晶圆/LCD(载物台尺寸3”)上可测量的薄膜厚度8)桌面型，适用于大学、研究实验室等。